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股票代碼:002819

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Enli LBIC-010 超小光斑光譜響應測試系統 IPCE 量子效率測試

enli LBIC-010 超小光斑光譜響應測試系統 IPCE 量子效率測試
產品型號:
LBIC-010
產品名稱:
超小光斑光譜響應測試系統 IPCE 量子效率測試
廠商名稱:
Enli(光焱)
產品屬性:
主機
產品狀態:
停產
系統描述:

  本設備用于測量、分析光電探測器、CMOS,CCD等器件的微小局部特性,由于CMOS單位畫素尺寸小于50微米,無法以一般的白光光源聚焦到微米等級的光斑,須采用激光光源方能聚焦到微米等級后,因此需要激光光束引致電流掃描圖譜儀,測量微小器件的居部特性。
  激光光束引致電流掃描圖譜儀為精密的光電轉換效率量測掃描裝置,用于檢測光電探測器、CCD、CMOS器件的轉換效率、均勻度,光譜響應,量子效率等特性。其組成為激光源、聚焦光路集成系統、精密電動掃描平臺、光電流訊號量測系統、控制分析系統及軟件等五大部分。

1.激光源部分: 采用高同調性、高能量的激光,作為激發光電探測器器件,引致其產生光電流,本身的光強度不穩定性需≦ 1 %。
2.聚焦光路集成系統: 為多種光學零件(反射鏡、鏡座、光學濾鏡等等)組成之精密光學系統,可導引激光光源到聚焦光學鏡組,聚焦后產生微米(micrometer)等級的光點,用以量測光電器件微小局部特性。
3.精密電動掃描平臺: 用以載附光電器件作二維移動,以使聚焦光點能在器件表面作掃描量測。
4.光電流訊號量測系統: 聚焦后的光點在入射到器件后,產生光電轉換,生成微弱光電流訊號(奈安培到微安培等級),經過光電轉換放大器,鎖相放大器測得此光電訊號。
5.控制分析系統及軟件: 能控制激光源、光束大小調整、精密電動平臺移動、及微弱光電量測四大部分,作器件特性的二為掃描量測,并將量測數據自動作分析及繪制二維及三微的圖形顯示。



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